DINA BRADY ANDERSON,アンダーソン，ディーナ ブレイディ,GAVIN STEPHEN HACKETT,ハケット，ギャビン スティーブン,LIU SAI MAN,リュー，サイ マン
申请号：
JP2019069960
公开号：
JP2019129840A
申请日:
2019.04.01
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要：
To provide methods for producing clostridial toxins exhibiting increased tissue retention and decreased diffusion from the administration site compared with known clostridial toxins, and pharmaceutical compositions comprising the same.SOLUTION: Disclosed herein is a method for producing engineered clostridial toxin, comprising the steps of: a. providing a clostridial toxin comprising a receptor binding domain (H) of clostridial toxin； and b. modifying the Hdomain by introducing at least one amino acid modification to providing an engineered clostridial toxin, where the modification elevates the isoelectric point (pI) of the clostridial toxin by at least 0.2 pI units than the pI of a clostridium toxin identical to the engineered clostridial toxin except for the at least one amino acid modification.SELECTED DRAWING: Figure 1【課題】既知のクロストリジウム毒素と比較して、投与部位における組織保持性が増加し、投与部位からの拡散の低減を示すクロストリジウム毒素の生産方法、それを含む医薬組成物の提供。【解決手段】以下の工程を含む、改変クロストリジウム毒素の生産方法：ａ．クロストリジウム毒素の受容体結合ドメイン（ＨＣドメイン）を含むクロストリジウム毒素を提供する工程；及び、ｂ．前記クロストリジウム毒素のＨＣドメインを、少なくとも１つのアミノ酸修飾を導入することにより修飾し、改変クロストリジウム毒素を提供する工程；ここで、当該修飾は、改変クロストリジウム毒素の等電点(pI)を上昇させ、前記少なくとも1つのアミノ酸修飾を欠く以外は同一のクロストリジウム毒素のpIより、少なくとも0.2pI単位だけ高い値にする。【選択図】図１
