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ORGANOSILICON COMPOUND AND DENTAL RESTORATIVE MATERIAL COMPOSITION
专利权人:
クラレノリタケデンタル株式会社;KURARAY NORITAKE DENTAL INC
发明人:
ISHINO HIROSHIGE,石野 博重
申请号:
JP2016130772
公开号:
JP2018002642A
申请日:
2016.06.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: antimicrobial inorganic particles excellent in sustained mechanical strength that are of a non-eluting type in which an antimicrobial component is not eluted from the dental composition after polymerization curing and a sustained antimicrobial action appears only at the surface of the dental composition without inhibiting growth of oral bacteria therearound; and a dental composition containing the same.SOLUTION: There is provided an organosilicon compound represented by the general formula (I) in the figure. (In the formula, R1 represents a hydrogen atom or methyl group, R2 and R3 are identical to or different from each other and each represent a hydrogen atom or C1-3 alkyl group, R4 represents a methoxy group or ethoxy group, X represents a C2-10 alkylene group, Y represents a C4-30 alkylene group, and Z represents a chlorine atom, bromine atom, or iodine atom.)SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2018,JPO&INPIT【課題】重合硬化後の歯科用組成物から抗菌成分が溶出せず、歯科用組成物の表面のみで抗菌性が持続的に発現されるとともに、その周囲での口腔内細菌の発育阻止を引き起こさない、非溶出型であり、持続的な機械的強度にも優れる抗菌性無機粒子、及びそれを含む歯科用組成物を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)で表される有機珪素化合物。(式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2及びR3はそれぞれ同一又は異なって、水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を示し、R4はメトキシ基又はエトキシ基を示し、Xは炭素数2~10のアルキレン基を示し、Yは炭素数4~30のアルキレン基を示し、Zは塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を示す。)【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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