An electron beam irradiation device is provided with: an electron beam generation unit for generating an electron beam； a housing part that forms a vacuum space for accommodating the electron beam generation unit； an electron beam guide part that has a proximal end connected to the housing part, is in communication with the vacuum space, has a distal end that is provided with an elongated cylindrical member that can be inserted into the inside of a container via an opening in the container, and has the electron beam generated by the electron beam generation unit pass therein； an electron beam emission window that is provided on the distal end of the electron beam guide part and through which the electron beam is emitted； and an adjustment unit for adjusting the path of the electron beam in the electron beam guide part. The adjustment unit is disposed outside the vacuum space on the proximal side of the electron beam guide part.L'invention concerne un dispositif d'irradiation par faisceau d'électrons qui comprend : une unité de génération de faisceau d'électrons pour générer un faisceau d'électrons ； une partie de logement qui forme un espace sous vide pour recevoir l'unité de génération de faisceau d'électrons ； une partie de guidage de faisceau d'électrons qui a une extrémité proximale reliée à la partie de logement, est en communication avec l'espace sous vide, a une extrémité distale comprenant un élément cylindrique allongé qui peut être introduit à l'intérieur d'un contenant par une ouverture dans le contenant, et a le faisceau d'électrons généré par l'unité de génération de faisceau d'électrons qui passe au travers de cette dernière ； une fenêtre d'émission de faisceau d'électrons qui est formée sur l'extrémité distale de la partie de guidage de faisceau d'électrons et à travers laquelle le faisceau d'électrons est émis ； et une unité de réglage pour régler le trajet du faisceau d'électrons dans la partie de guidage de faisceau d'électrons. L'unité de réglage
