A nozzle-type electron beam irradiation device (1) is provided with: a vacuum chamber (2)； an electron beam generator (3) disposed inside the vacuum chamber (2)； and a vacuum nozzle (4) which is connected to the vacuum chamber (2), guides an electron beam (E) from the electron beam generator (3) and irradiates the electron beam to the outside. The nozzle-type electron beam irradiation device (1) is also provided with a high-vacuum pump (5) capable of sucking from a location in the vicinity of the part of the vacuum chamber (2) to which the vacuum nozzle (4) is connected.L'invention concerne un dispositif d'irradiation par faisceau d'électrons de type à buse (1) qui comporte : une chambre à vide (2)； un générateur de faisceau d'électrons (3) placé à l'intérieur de la chambre à vide (2)； et une buse à vide (4) qui est reliée à la chambre à vide (2), guide un faisceau d'électrons (E) à partir du générateur de faisceau d'électrons (3) et irradie le faisceau d'électrons vers l'extérieur. Le dispositif d'irradiation par faisceau d'électrons de type à buse (1) est également pourvu d'une pompe à vide poussé (5) capable d'aspiration à partir d'un emplacement au voisinage de la partie de la chambre à vide (2) à laquelle la buse à vide (4) est reliée.真空チャンバ（２）と、この真空チャンバ（２）の内部に配置された電子線発生器（３）と、真空チャンバ（２）に接続されて電子線発生器（３）からの電子線（Ｅ）を案内して外部に照射する真空ノズル（４）とを備えるノズル式電子線照射装置（１）である。このノズル式電子線照射装置（１）は、真空チャンバ（２）において真空ノズル（４）が接続されている部分の近傍から吸引し得る高真空ポンプ（５）を備える。
