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粒子線照射装置および粒子線照射装置の制御方法
专利权人:
HITACHI; LTD.
发明人:
SHINAGAWA Ryousuke,品川 亮介,MATSUDA Kouji,松田 浩二,TADOKORO Masahiro,田所 昌宏,SEKIKAWA Hiroyuki,関川 博行
申请号:
JPJP2015/083307
公开号:
WO2016/104040A1
申请日:
2015.11.27
申请国别(地区):
WO
年份:
2016
代理人:
摘要:
Provided is a particle beam radiation device and a particle beam radiation device control method, whereby an error in the amount of beam radiation can be lowered with simple means.In a particle beam radiation device for radiating onto a subject to be irradiated a charged particle beam such as of proton or carbon, control is performed where the beam intensity is reduced from a time point that is reached prior to a few MU units before a predetermined timing for reaching a control point, which is a suitably planned beam stop timing, such as a spot immediately before a layer change or a move to a remote spot by the control device.Linvention concerne un dispositif à rayonnement de faisceau de particules et un procédé de commande de dispositif à rayonnement de faisceau de particules, une erreur dans la quantité de rayonnement de faisceau pouvant être réduite par des moyens simples. Dans un dispositif de rayonnement de faisceau de particules pour la projection sur un sujet à irradier un faisceau de particules chargées, par exemple un proton ou un atome de carbone, la commande est effectuée à lendroit où lintensité de faisceau est réduite depuis un instant qui est atteint en amont de quelques unités MU avant un moment préétabli datteinte dun point de repère, lequel est un moment darrêt de faisceau planifié de manière appropriée, par exemple un point précédant immédiatement un changement de couche ou un mouvement vers un point éloigné par le dispositif de commande.簡便な手段により、照射線量誤差を小さくすることを可能とした粒子線照射装置および粒子線照射装置の制御方法を提供する。 陽子や炭素などの荷電粒子ビームを照射対象へ照射するための粒子線照射装置において、制御装置によってレイヤ(層)変更、遠隔スポットへ移動する直前のスポット等、任意に計画されたビーム停止タイミングであるコントロールポイントに到達する所定タイミング前の数MU単位の前に達した時点からビーム強度を減少させる制御を行う。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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