This manufacturing method of an imaging device for an endoscope involves: a manufacturing step S10 for manufacturing an optical unit 10 which comprises multiple stacked optical elements 11-15, and an imaging element 40 which includes an imaging element 30 having a light receiving surface 30SA； a measurement step S20 for measuring the position of the image plane FP where a subject image, focused by the optical unit 10, is formed； an interval adjustment step S40 for adjusting the interval between the optical unit 10 and the imaging unit 40 so that the image plane FP, measured in the measurement step S20, is in the position of the light receiving surface 30SA； and a curing step S50 in which, by curing resin 50 arranged between the optical unit 10 and the imaging unit 40, fixes the optical unit 10 and the imaging unit 40 in the state with the interval having been adjusted in the interval adjustment step S40.L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif d'imagerie pour un endoscope qui comprend : une étape de fabrication S10 pour fabriquer une unité optique 10 qui comprend de multiples éléments optiques empilés 11-15, et un élément d'imagerie 40 qui comprend un élément d'imagerie 30 ayant une surface de réception de lumière 30SA ； une étape de mesure S20 pour mesurer la position du plan d'image FP où une image du sujet, focalisée par l'unité optique 10, est formée ； une étape d'ajustement d'intervalle S40 pour ajuster l'intervalle entre l'unité optique 10 et l'unité d'imagerie 40 de sorte que le plan d'image FP, mesuré dans l'étape de mesure S20, est dans la position de la surface de réception de lumière 30SA ； et une étape de durcissement S50 dans laquelle, par durcissement d'une résine 50 disposée entre l'unité optique 10 et l'unité d'imagerie 40, on fixe l'unité optique 10 et l'unité d'imagerie 40 dans l'état avec l'intervalle qui a été ajusté dans l'étape d'ajustement d'intervalle S40.内視鏡用撮像装置の製造方法は、複数の光学素子１１～１５が積層された光学部１０と、受光面３０ＳＡを有する撮像素子３０を含む撮像部４０と
