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レチクル形状修正装置及びこれを用いたフォトリソグラフィー・ツール
- 专利权人:
- シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント カンパニー リミティド
- 发明人:
- リー リンユゥ,リー ユゥロン
- 申请号：
- JP20160543692
- 公开号：
- JP2017503207(A)
- 申请日:
- 2014.11.28
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- レチクル形状修正装置（１０）は、吸盤（１００）、吸盤取付フレーム（２００）、空気制御システムを備え、吸盤取付フレーム（２００）は、レチクルステージ（７００）の上に配置され、吸盤（１００）は、吸盤取付フレーム（２００）の底に、互いに離間して取り付けられ、空気制御システムは、吸引によってレチクル（６００）を保持するか、レチクルを離すように複数の吸盤（１００）を制御する。吸盤（１００）は、レチクルの上で台形の露光視野（６１０）をブロックしないように配置されるため、光線を完全に（１００％）レチクルの上に入射させ、改善された露光効率を得られる。装置（１０）は、当該装置が使用されるフォトリソグラフィー・ツールと別個に搭載されるため、レチクル（６００）への負荷を低減できる。さらに、装置（
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
