A novel x-ray treatment system utilizes one or more large area flat panel sources (821, 823, 825, 827) of x-ray radiation directed into a target zone (829). A target substance within the target zone is irradiated with x-ray radiation (831, 833, 835, 837) from the one or more flat panel sources, reducing the biological effects of a contaminant presence therein. The flat panel source comprises an electron source, an electron accelerator, and an electron target medium. The electron source may emit electrons either via field emission or thermionic emission. The x-ray source may operate in transmissive, reflective, or combined transmissive/ref lective mode. The use of large area flat panel x-ray sources in the inventive systems allows for decreased installation and operational costs as well as increased efficiency.Linvention concerne un nouveau système de traitement par rayons X utilisant une ou plusieurs sources de panneau plat grande surface de rayonnement de rayons X dirigés dans une zone cible. La substance cible dans la zone cible est irradiée par le rayonnement de rayons X à partir dune ou plusieurs sources de panneau plat, réduisant les effets biologiques dune présence contaminante. La source de panneau plat comprend une source délectrons, un accélérateur délectrons, et un milieu cible délectron. La source délectrons peut émettre des électrons soit par émission de champ soit par émission thermionique. La source de rayons X peut fonctionner en mode transmissif, réflexif, ou transmissif/réflexif combiné. Lutilisation de sources de rayons X de panneau plat grande surface dans des systèmes de linvention permet une installation et des coûts de fonctionnement réduits, ainsi quune efficacité améliorée.
