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倒漏斗形硅基实心微针阵列的制备方法
专利权人:
安徽中鼎玉铉新材料科技有限公司
发明人:
朱五林,李宝庆,谢兰胜,吕庆贵
申请号:
CN201810941632.6
公开号:
CN109173039A
申请日:
2018.17.08
申请国别(地区):
CN
年份:
2019
代理人:
摘要:
本发明提出一种倒漏斗形硅基实心微针阵列的制备方法,包括以下步骤:1)在单晶硅片上沉积正面氮化硅保护膜和反面氮化硅保护膜;2)在正面氮化硅保护膜上旋涂光刻胶进行光刻,光刻后的光刻胶形成阵列状的圆形遮挡胶膜;3)干法刻蚀掉暴露在遮挡胶膜外的正面氮化硅保护膜,露出单晶硅片;4)利用电感耦合等离子体刻蚀系统,采用深硅刻蚀Bosch工艺,对单晶硅片进行各向异性刻蚀,在单晶硅片上刻蚀出阵列状的圆柱体;5)去除单晶硅片上遮挡胶膜;6)利用酸性腐蚀液对单晶硅片进行各向同性湿法腐蚀,得到微针阵列。本发明可实现高深宽比、针尖直径与长度可控的倒漏斗形结构的实心微针阵列加工。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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