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Composition for topical application, comprising a distyryl compound and use of this composition for application control of dermal cosmetics, dermatological preparations and disinfectants
专利权人:
Karin Bartling-Dudziak
发明人:
gleich Patentinhaber
申请号:
DE19838441
公开号:
DE19838441B4
申请日:
1998.08.24
申请国别(地区):
DE
年份:
2015
代理人:
摘要:
Verwendung einer Zusammensetzung zur topischen Applikation umfassend eine Distyrylverbindung der Formel (I)zur Applikationskontrolle dermatologischer Externa oder von Hautkosmetika, zur Schulung korrekten Waschens der Haut oder zur Schulung korrekten Desinfizierens der Haut, wobei R1und R2jeweils unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom oder eine C1-C4-Alkylgruppe darstellen; R3ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine C1-C4-Alkylgruppe, eine Cyanogruppe, SO3–M+, wobei M+ein Alkalimetallion darstellt, oder -X-Y-Z darstellt, wobei X eine Einfachbindung, ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, -CONR6oder -COO- darstellt, wobei R6ein Wasserstoffatom, eine C1-C4-Alkylgruppe, oder Cyanoethyl darstellt, Y C1-C4-Alkylen oder Hydroxypropylen darstellt und Z eine quartäre Ammonium-Gruppe darstellt; und n 1 oder 2 ist.Use of a composition for topical application comprising a distyryl compound of the formula (I) for application control dermatologischer Externa or skin cosmetics, for training correct washing of the skin or training correct disinfecting the skin, wherein R1 and R2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C4 alkyl group; R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 -C 4 alkyl group, a cyano group, SO 3 -M +, wherein M + represents an alkali metal ion, or -XYZ, wherein X represents a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom, -CONR 6 or -COO- wherein R6 represents a hydrogen atom, a C1-C4 alkyl group, or cyanoethyl, Y represents C1-C4 alkylene or hydroxypropylene, and Z represents a quaternary ammonium group; and n is 1 or 2.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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