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LOW-IRRITATION COMPOSITIONS
专利权人:
发明人:
申请号:
EP06752320.9
公开号:
EP1883389B1
申请日:
2006.05.05
申请国别(地区):
EP
年份:
2016
代理人:
摘要:
Provided are compositions comprising low molecular weight polymeric materials and surfactants having reduced irritation associated therewith, methods of reducing the irritation associated with a personal care composition comprising an anionic and/or amphoteric surfactant, the methods comprising combining a low molecular weight polymeric material capable of binding a surfactant thereto with an anionic surfactant to produce a reduced irritation personal care composition, and methods of using such compositions to cleanse the hair or skin with reduced irritation.Linvention concerne des compositions contenant des polymères de faible poids moléculaire et des tensioactifs faiblement irritants associés, ainsi que des procédés permettant de réduire les irritations associées à une composition de soins personnels comprenant un tensioactif anionique et/ou amphotère. Ces méthodes consistent à combiner un polymère de faible poids moléculaire capable de fixer un tensioactif et un tensioactif anionique, pour produire une composition de soins personnels faiblement irritante. Linvention concerne également des méthodes dans lesquelles ces compositions faiblement irritantes sont utilisées pour le soin des cheveux ou de la peau.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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