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LOW-IRRITATION COMPOSITIONS AND METHODS OF MAKING THE SAME
专利权人:
发明人:
申请号:
EP06752271.4
公开号:
EP1879659B1
申请日:
2006.05.05
申请国别(地区):
EP
年份:
2013
代理人:
摘要:
Provided are compositions comprising low molecular weight polymeric materials and surfactants having reduced irritation associated therewith, methods of reducing the irritation associated with a personal care composition comprising an anionic and/or amphoteric surfactant, the methods comprising combining a low molecular weight polymeric material capable of binding a surfactant thereto with an anionic surfactant to produce a reduced irritation personal care composition, and methods of using such compositions to cleanse the hair or skin with reduced irritation.Linvention concerne des compositions contenant des matériaux polymères de poids moléculaire faible auxquels sont associés des tensioactifs possédant une pouvoir irritant limité, des méthodes servant à limiter lirritation associée à une composition dhygiène personnelle comprenant un tensioactif anionique et/ou amphotère. Ces méthodes consistent à combiner un matériau polymère de faible poids moléculaire capable de se lier à un tensioactif à un tensioactif anionique afin de préparer une composition dhygiène personnelle peu irritante. Elle concerne également des méthodes dutilisation de ces compositions afin de nettoyer la chevelure ou la peau sans risque dirritation.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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