The present invention comprises a low molecular weight polymeric material and a surfactant having a reduced irritation associated with the composition the composition , anionic and / or both the method for reducing the irritation associated with personal care composition comprising a cationic surfactant , a low molecular weight surfactant which may be bonded to the polymeric material and the anionic surfactant reduce irritation by blending a surfactant the method used in the composition is provided for washing the hair or the skin and reduced irritation to the method for manufacturing a personal care composition .본 발명은 당해 조성물과 관련된 감소된 자극을 갖는 저분자량 중합체성 물질 및 계면활성제를 포함하는 조성물, 음이온성 및/또는 양쪽이온성 계면활성제를 포함하는 퍼스널 케어 조성물과 관련된 자극을 감소시키는 방법, 계면활성제에 결합시킬 수 있는 저분자량 중합체성 물질과 음이온성 계면활성제를 배합하여 자극이 감소된 퍼스널 케어 조성물을 제조하는 방법 및 감소된 자극으로 모발 또는 피부를 세정하기 위한 당해 조성물의 이용방법이 제공된다.
