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マニキュア除光液の組成物
专利权人:
LIN HSIEN WEN
发明人:
LIN HSIEN WEN,林先文
申请号:
JP2011129332
公开号:
JP2012254958A
申请日:
2011.06.09
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a nail polish remover composition including γ-butyrolactone.SOLUTION: The nail polish remover composition includes 10-95 wt.% γ-butyrolactone, 2.3899-52.9 wt.% water, and 2.6101-37.1 wt.% additives and the component for removing nail polish mainly includes γ-butyrolactone, whereas the known nail polish remover including acetone has disadvantages of giving out an odor irritating the nose and corroding and injuring nails in removing nail polish. Further, γ-butyrolactone has no odor irritating the nose and hardly injures nails, and accordingly a new nail polish remover with this compound is provided.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】ガンマブチロラクトンを含むマニキュア除光液の組成物を提供する。【解決手段】本発明は、マニキュア除光液の組成物に関する。アセトンを含む公知のマニキュア除光液が、鼻を刺激する匂いを放ち、マニキュアを除去する際に、爪を腐蝕させたり傷めたりする欠点を有するのに対し、本発明の組成物は、重量百分率が10%乃至95%のガンマブチロラクトン(γ-butyrolactone)と、重量百分率が2.3899%乃至52.9%の水と、重量百分率が2.6101%乃至37.1%の添加剤とを含み、マニキュアを除去する成分には主に、ガンマブチロラクトン(γ-butyrolactone)を含む。なお、ガンマブチロラクトン(γ-butyrolactone)には、鼻を刺激する匂いはなく、爪を傷めることも少ないため、これをもって新規のマニキュア除光液を提供する。【選択図】無
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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