A calibration method and corresponding object for calibrating an X-ray imaging system with respect to dark field imaging is disclosed. The calibration object (1) generically comprises a plurality of sections (10, 20), wherein at least a part of the sections comprises two different materials, respectively. One material (101, 201) in a corresponding section leads to attenuation of passing X-ray beams and the other material (102, 202) is a dark field active material leading to small-angle scattering signals of incident X-rays. The ratio of the two materials in one section varies from section to section. The calibration object can be used to calibrate an X-ray imaging system with respect to a non-linear behavior of the dark field visibility.L'invention porte sur un procédé d'étalonnage et sur un objet correspondant pour étalonner un système d'imagerie à rayons X en liaison avec l'imagerie en fond noir. L'objet d'étalonnage (1) comprend généralement une pluralité de sections (10, 20), au moins une partie des sections comprenant deux matériaux différents, respectivement. Un matériau (101, 201) dans une section correspondante conduit à l'atténuation des faisceaux de rayons X qui passent et l'autre matériau (102, 202) est un matériau actif en champ noir conduisant à des signaux de diffusion à petits angles des rayons X incidents. Le rapport entre les deux matériaux dans une section varie d'une section à l'autre. L'objet d'étalonnage peut être utilisé pour étalonner un système d'imagerie à rayons X en ce qui concerne un comportement non linéaire de la visibilité en champ noir.
