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Method and device for in silico prediction of chemical pathway
专利权人:
삼성전자주식회사
发明人:
시바 쿠마르 타디 벤카다,바두리 아니르반,김태용,기리 바룬
申请号:
KR20160025779
公开号:
KR20170049346(A)
申请日:
2016.03.03
申请国别(地区):
韩国
年份:
2017
代理人:
摘要:
시작 화합물을 타겟 화합물로 변형하는 화학적 경로를 인실리코(in silico) 예측하는 방법 및 장치는, 시작 화합물 및 타겟 화합물 각각으로부터 출력 분자들을 예측하고, 시작 화합물 및 타겟 화합물 각각으로부터 예측된 출력 분자들까지 진행되는 반응 예측 단계들의 순서를 연관시킴으로써 화학적 경로를 예측한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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