PROBLEM TO BE SOLVED: To provide compositions for preventing scattering of polishing debris of nail or skin capable of suppressing scattering in a short time by including these polishing debris when polishing nail or skin.SOLUTION: Provided is a composition for preventing scattering of Polishing debris of nail or skin, which contains a thickening compound and a solvent component, containing at least a polysaccharide having a carboxylic acid structure in the molecule, as a thickening compound, and having a ratio of water to the total amount of solvent components of 90% by mass or more.SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2020,JPO&INPIT【課題】爪または皮膚を研磨する際、これらの研磨カスを包摂した研磨カス飛散防止組成物が短時間で飛散することを抑制することが可能な爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物を提供する。【解決手段】増粘性化合物および溶媒成分を含有する爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物であって、増粘性化合物として少なくとも分子中にカルボン酸構造を有する多糖類を含有し、かつ全溶媒成分量に対する水の割合が９０質量％以上である。【選択図】なし
