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Scanning magnet device and charged particle beam irradiation system
专利权人:
TOSHIBA CORP;東芝エネルギーシステムズ株式会社;株式会社東芝;TOSHIBA ENERGY SYSTEM&SOLUTION CORP
发明人:
高山 茂貴,折笠 朝文,長本 義史,TAKAYAMA SHIGEKI,ORIGASA TOMOFUMI,NAGAMOTO YOSHIFUMI
申请号:
JP2018171370
公开号:
JP2020041971A
申请日:
2018.09.13
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
A charged particle beam irradiation field can be secured widely. An X-direction scanning coil (21A, 21B) or a Y-direction scanning coil (22A) for deflecting and scanning the charged particle beam (1) in an X direction or a Y direction orthogonal to a traveling direction (S direction) of the charged particle beam (1). 22B, and these scanning coils are arranged opposite to each other in a direction orthogonal to the traveling direction (S direction) and the beam deflection direction (X direction or Y direction) with the orbital position of the charged particle beam interposed therebetween. Are provided such that their inner diameters (for example, Rc and Ro) gradually increase from the upstream side to the downstream side along the traveling direction (S direction) of the charged particle beam, and the inner peripheral position P is charged. It is configured to be held at a certain distance Rc or more from the particle beam 1. [Selection diagram] FIG.【課題】荷電粒子ビームの照射野を広く確保できること。【解決手段】荷電粒子ビーム1の進行方向(S方向)に対して直交するX方向またはY方向に荷電粒子ビーム1を偏向させて走査するX方向走査コイル21A、21BまたはY方向走査コイル22A、22Bを備え、これらの走査コイルは、荷電粒子ビームの軌道位置を挟んで、進行方向(S方向)及びビーム偏向方向(X方向またはY方向)に対し直交する方向に対向して配置され、これらの走査コイルは、その内径(例えばRc、Ro)が、荷電粒子ビームの進行方向(S方向)に沿って上流側から下流側へ漸次増大して設けられると共に、その内周位置Pが、荷電粒子ビーム1に対して一定の距離Rc以上に保持されるよう構成されたものである。【選択図】図8
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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