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Photoacoustic measuring device and signal processing method of photoacoustic measuring device
专利权人:
富士フイルム株式会社
发明人:
橋本 温之,入澤 覚,大澤 敦,井上 知己
申请号:
JP2017542731
公开号:
JPWO2017056462A1
申请日:
2016.09.21
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
A photoacoustic measurement apparatus and a signal processing method therefor are capable of reducing artifacts caused by photoacoustic waves generated on a surface portion of a subject on which measurement light is incident. A photoacoustic measurement device (10) determines an artifact generation region and an artifact non-generation region in a photoacoustic image based on a positional relationship between a light emitting unit (40) and an acoustic wave detection unit (20). A first filtering process is performed on the first photoacoustic wave detection signal corresponding to the photoacoustic image of the region discriminating area (24) and the artifact non-occurrence region, and the second corresponding to the photoacoustic image of the artifact occurrence region. Filter means (24) for performing a second filtering process on the photoacoustic wave detection signal. The second filtering process reduces the photoacoustic wave detection signals in the frequency range lower than the predetermined frequency more than the first filtering process. [Selection] Figure 1【課題】測定光が入射する被検体の表面部分で生じた光音響波に起因するアーチファクトを低減できる光音響計測装置、およびその信号処理方法を得る。【解決手段】光音響計測装置(10)は、光出射部(40)と音響波検出部(20)との位置関係に基づいて、光音響画像中のアーチファクト発生領域とアーチファクト非発生領域とを判別する領域判別手段(24)、およびアーチファクト非発生領域の光音響画像に対応する第一の光音響波検出信号に第一のフィルタリング処理を行い、アーチファクト発生領域の光音響画像に対応する第二の光音響波検出信号に第二のフィルタリング処理を行うフィルタ手段(24)を有する。第二のフィルタリング処理は、第一のフィルタリング処理に比べて、所定の周波数よりも低い周波数範囲の光音響波検出信号をより多く低減する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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