radiation source (radiation source) (12), focus on the imaging system 16 , the focus (18a) on at least a partially reflective surface (18), the digital camera for recording the surface image , which is reflected by the 18 (24) , the computer evaluating the images recorded by the camera (24) (C), and the focus the optical device (34 36) in the beam path of the optical system 10 in the upstream of the location system 16. the method for detecting the focus position of the optical system and having a device is disclosed, wherein the optical element (34 36 ) influences the focused image, depending on the location .방사원(radiation source)(12), 초점 이미징 시스템(16), 초점(18a) 상의 적어도 부분적으로 반사적인 표면(18), 상기 표면(18)에 의해 반사되는 이미지를 기록하는 디지털 카메라(24), 상기 카메라(24)에 의해 기록된 상기 이미지를 평가하는 컴퓨터(C), 그리고 상기 초점 위치 시스템(16)의 업스트림에서 광학 시스템(10)의 빔 경로 내의 광소자(34 36)를 갖는 광학 시스템의 초점 위치를 검출하는 방법 및 장치가 개시되어 있는데, 여기서 상기 광소자(34 36)는 초점이 맞춰진 위치에 따라 상기 이미지에 영향을 미친다.
