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电磁辐射束扫描系统和方法
专利权人:
阿瓦瓦公司
发明人:
C·H·德雷瑟,J·巴瓦尔卡,J·廷
申请号:
CN201880087095.1
公开号:
CN111629679A
申请日:
2018.12.13
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
提供了一种电磁束扫描系统及对应的使用方法。该系统包括电机、往复机构和聚焦光学件。电机被配置为生成旋转运动。往复机构可操作地与电机耦合并且被配置为将旋转运动转换为沿着第一扫描轴线的包括多个冲程的往复运动。往复运动在多个冲程中的至少一个冲程的一部分上具有恒定速度。聚焦光学件可操作地耦合到往复机构,使得聚焦光学件的运动经历往复机构的往复运动。聚焦光学件被配置为将入射到聚焦光学件上的电磁辐射(EMR)束聚焦到沿着光轴的焦点,该光轴与第一扫描轴线基本正交。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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