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用于治疗设备的反馈检测
专利权人:
发明人:
J·巴瓦尔卡,C·H·德雷瑟,R·凯特卡姆
申请号:
CN202211363487.0
公开号:
CN115670643A
申请日:
2019.06.20
申请国别(地区):
CN
年份:
2023
代理人:
摘要:
一种系统包括被配置为将电磁辐射(EMR)束会聚至沿着光轴而定位的焦点区域的聚焦光学器件。该系统还包括被配置为检测从沿着光轴的预定位置发出的信号辐射的检测器。该系统附加地包括被配置为部分地基于由检测器检测到的信号辐射来调整EMR束的参数的控制器。该系统还包括沿着光轴在焦点区域与聚焦光学器件之间定位于远离焦点区域的预定深度的窗口,其中窗口被配置为与组织的表面进行接触。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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