用于基于EMR的组织处理的衍射光学
- 专利权人:
- 阿瓦瓦公司
- 发明人:
- R·凯特卡姆,C·H·德雷瑟,J·巴瓦尔卡
- 申请号：
- CN201980035320.1
- 公开号：
- CN112165893A
- 申请日:
- 2019.04.11
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2021
- 代理人:
- 摘要：
- 一种方法包括从激光光束生成多个主光束，以及从主光束生成一个或多个次光束。该方法还包括将第一次光束聚焦到靶标组织中的第一聚焦区域并且将第二次光束聚焦到靶标组织中的第二聚焦区域。第一聚焦区域和第二聚焦区域可以被定位在靶标组织中的不同深度处。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
