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吡啶及嘧啶衍生物
专利权人:
F. HOFFMANN-LA ROCHE AG
发明人:
HOENER, MARIUS,荷纳 玛瑞亚斯,荷納 瑪瑞亞斯,WICHMANN, JUERGEN,威奇曼 吉尔金,威奇曼 吉爾金,荷纳 玛瑞亚斯,荷納 瑪瑞亞斯,威奇曼 吉尔金,威奇曼 吉爾金
申请号:
TW105125661
公开号:
TW201718499A
申请日:
2016.08.11
申请国别(地区):
TW
年份:
2017
代理人:
摘要:
The present invention relates to compounds of formula I wherein R1’ is CH3 R1 is methyl, ethyl, CF3, CH2OH, cyclopropyl or cyano, or R1’ and R1 may form together a 1,1-dioxo-tetrahydro-thiophen-3-yl ring; R2 is hydrogen, methyl, ethyl, isopropyl, tert-butyl or cyclopropyl; R3 is Cl, F, CF3, cyano, methyl, methoxy or cyclopropyl; R4 is hydrogen, methyl or F; X is N or CH; Y is N or CH; with the proviso that X and Y are not simultaneously CH; or to a pharmaceutically acceptable salt or acid addition salt, to a racemic mixture, or to its corresponding enantiomer and/or optical isomer and/or stereoisomer thereof.The compounds of formula I may be used in the treatment of psychiatric disorders such as schizophrenia, bipolar disorder, obsessive-compulsive disorder or autism spectrum disorder.本發明係關於式I化合物其中R1’為CH3;R1為甲基、乙基、CF3、CH2OH、環丙基或氰基;或R1’及R1可一起形成1,1-二側氧基-四氫-噻吩-3-基環;R2為氫、甲基、乙基、異丙基、第三丁基或環丙基;R3為Cl、F、CF3、氰基、甲基、甲氧基或環丙基;R4為氫、甲基或F;X為N或CH;Y為N或CH;限制條件為X及Y不同時為CH;或其醫藥上可接受的鹽或酸加成鹽、外消旋混合物或其相應對映異構體及/或光學異構體及/或立體異構體。該等式I化合物可用於治療精神病症,諸如精神分裂症、躁鬱症、強迫症或自閉症譜系障礙。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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