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吡唑-吡啶衍生物
专利权人:
F. HOFFMANN-LA ROCHE AG
发明人:
WICHMANN, JUERGEN,威奇曼 吉尔金,威奇曼 吉爾金,HOENER, MARIUS,荷纳 玛瑞亚斯,荷納 瑪瑞亞斯,威奇曼 吉尔金,威奇曼 吉爾金,荷纳 玛瑞亚斯,荷納 瑪瑞亞斯
申请号:
TW106103514
公开号:
TW201730176A
申请日:
2017.02.02
申请国别(地区):
TW
年份:
2017
代理人:
摘要:
The present invention relates to compounds of formula II wherein R1’is CH3; R1is CH3, ethyl, CF3, CH2OH, cyclopropyl or cyano, or R1’and R1may form together a 1,1-dioxo-tetrahydro-thiophen-3-yl ring; R2is hydrogen, CH3, ethyl, isopropyl, tert-butyl, cyclopropyl, cyclopropyl-methyl or hydroxy-methyl; R3is hydrogen, Cl, F, CF3, CH3, isopropyl, methoxy, cyano or cyclopropyl; R4is hydrogen, CH3, F or Cl; or to a pharmaceutically acceptable salt or acid addition salt, to a racemic mixture, or to its corresponding enantiomer and/or optical isomer and/or stereoisomer thereof. The compounds of formula I may be used in the treatment of psychiatric disorders such as schizophrenia, bipolar disorder, obsessive-compulsive disorder or autism spectrum disorder.本發明係關於式I化合物:I 其中 R1'為CH3; R1為CH3、乙基、CF3、CH2OH、環丙基或氰基,或 R1'與R1可一起形成1,1-二側氧基-四氫-噻吩-3-基環; R2為氫、CH3、乙基、異丙基、第三丁基、環丙基、環丙基-甲基或羥基-甲基; R3為氫、Cl、F、CF3、CH3、異丙基、甲氧基、氰基或環丙基; R4為氫、CH3、F或Cl; 或其醫藥上可接受之鹽或酸加成鹽、外消旋混合物或其相應對映異構體及/或光學異構體及/或立體異構體。 該式I化合物可用於治療精神病症,諸如精神分裂症、躁鬱症、強迫症或自閉症類群障礙。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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