A second grid (14) is provided with a grid layer (21), a metal layer (22), and a support substrate (23). The grid layer (21) has x-ray-absorbing sections (26) and x-ray-transmitting sections (27) arranged alternatingly in a direction perpendicular to the direction of x-ray incidence. The support substrate (23) supports the grid layer (21) and has an ion-conducting material on the surface on the grid-layer (21) side. The metal layer (22) contains a first thin film (31), a second thin film (32), and a third thin film (33). The first thin film (31) is a sheath electrode for when forming the x-ray-absorbing sections (26) by electroplating. The second thin film (32) has better adhesion to the x-ray-transmitting sections (27) than to the first thin film (31). The third thin film (33) creates a better anodic bond to the support substrate (23) than to the first thin film (31).Selon linvention, une deuxième grille (14) comporte: une couche (21) de grille, une couche métallique (22) et un substrat (23). Dans la couche (21) de grille, des parties (26) dabsorption des rayons X et des parties (27) de transmission des rayons X sont disposées face à la direction dincidence des rayons X, verticalement et en alternance. Le substrat (23) possède un matériau conducteur dions sur sa surface côté couche (21) de grille, et soutient cette couche (21) de grille. La couche métallique (22) contient une première membrane (31) une deuxième membrane (32) et une troisième membrane (33). La première membrane (31) fait office délectrode à gaine lors de la formation par électro-placage des parties (26) dabsorption des rayons X. La deuxième membrane (32) présente une meilleure adhérence aux parties (27) de transmission des rayons X que la première membrane (31). La troisième membrane (33) présente une meilleure liaison anodique avec le substrat (23) que la première membrane (31).第2グリッド(14)は、グリッド層(21)、金属層(22)、支持基板(23)を備える。グリッド層(21)は、X線吸収部(26)とX線透過部(27)がX線の入射方向に対して垂直な方向に交互に配列されている。支持基板(23)は、グリッド層(21)側
