Provided is a phase-type radiographic-image imaging grid whereby almost no partial loss of X-rays occurs and deterioration over time is minimized. Said phase-type grid (13) is provided with a silicon substrate (41) and a sealing member (43). The following are formed on the surface of said silicon substrate (41): a grid section (42a) that produces a prescribed phase difference between X-rays passing through concave parts (46) and X-rays passing through convex parts (47) and a convex edge section (42b) around the grid section (42a). The sealing member (43) is provided on the surface of the silicon substrate (41) on which the grid section (42a) and edge section (42b) are formed and, at least, abuts against the edge section (42b) and seals the grid section (42a).La présente invention concerne une grille dimagerie pour images radiographiques de type à phases permettant que pratiquement aucune perte partielle de rayons X ne se produise et que la détérioration dans le temps soit minimisée. Ladite grille de type à phases (13) est dotée dun substrat en silicium (41) et dun élément de scellage (43). Les éléments suivants sont formés sur la surface dudit substrat en silicium (41) : une section de grille (42a) qui produit une différence de phase prescrite entre des rayons X passant dans des parties concaves (46) et des rayons X passant dans des parties convexes (47) et une section de bord convexe (42b) autour de la section de grille (42a). Lélément de scellage (43) est fourni sur la surface du substrat en silicium (41) sur laquelle la section de grille (42a) et la section de bord (42b) sont formées et, au moins, bute contre la section de bord (42b) et scelle la section de grille (42a).X線の部分的な損失をほぼ発生させず、かつ、経時劣化を抑えた位相型の放射線画像撮影用グリッドを提供する。 位相型グリッド(13)は、シリコン基板(41)と封止部材(43)とを備える。シリコン基板(41)は、凹部(46)を透過するX線と凸部(47)を透過するX線との間に所定位相差を発生させるグリッド部(42a)と、グリッド部(42a)の周囲に凸状の周縁部(42b)が表面に形成されている。封止部材(43)は、グリッド部(42a)及び周縁部(42b)が形成されたシリコン基板(41)の表面に設けられ、少なくとも周縁部(42b)と当接してグリッド部(42a)を封止する。
