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COMPUESTOS DE ESTER DE ACIDO BENZOICO POLIMERICOS DE SILILO, USOS Y COMPOSICIONES DE LOS MISMOS
专利权人:
INTERQUIM; S.A.
发明人:
GALLARDO SANCHEZ, ADAYA,MARQUILLAS OLONDRIZ, FRANCISCO DE ASIS,SALLARES ROSELL, JUAN,MILLARES BACETE, RICARDO JOSE,NONELL MARRUGAT, SANTIAGO
申请号:
PE0004692012
公开号:
PE13552012A1
申请日:
2010.10.14
申请国别(地区):
PE
年份:
2012
代理人:
摘要:
Refers to a Progressive organosilicon photoresist Polymer and preparation method thereof comprising reacting monomer of formula (i) with a compound of formula (iv) in a mixture of ethanol \/ water and in the presence of a basic Compound alkylamine as mono -, di - alcanolam INA, among others where R1, R2, R3, R4 and R5 are each h, alkyl, cycloalkyl (C1 - C6) (C3 and C6), NH2,COOH, among others R is a compound of formula (i), (iii), among others, where is H, cycloalkyl (C3 C6), NH2, among others l is a simple Link, CH2, among others Z is NH or o ra, RB and RC are one alkyl (C1 - C6), alquenilo (C2 - C6), cycloalkyl or phenyl (C3 C6) n, s and T are each 0 or 1 p is 2 to 4 Rd is alkyl (C1 - C6) RE, RF and RG are each alkyl (C1 - C6), alquenilo (C2 - C6)Cycloalkyl (C3 and C6) phenyl W1 and W2 are each 0 OR 1. It also relates to a Cosmetic or Dermatological compositions containing Said Polymer in an amount of 0.01% to 40% by weight of the composition. Said Polymer is capable of becoming photochemically in situ composite solar filterSE REFIERE A UN POLIMERO FOTOPROTECTOR PROGRESIVO DE ORGANOSILICIO Y SU PROCEDIMIENTO DE PREPARACION QUE COMPRENDE HACER REACCIONAR EL MONOMERO DE FORMULA (I) CON UN COMPUESTO DE FORMULA (IV) EN UNA MEZCLA DE ETANOL/ AGUA Y EN PRESENCIA DE UN COMPUESTO BASICO TAL COMO MONO-ALQUILAMINA, DI-ALCANOLAMINA, ENTRE OTROS DONDE R1, R2, R3, R4 Y R5 SON CADA UNO H, ALQUILO(C1-C6), CICLOALQUILO(C3-C6), NH2, COOH, ENTRE OTROS R ES UN COMPUESTO DE FORMULA (i), (iii), ENTRE OTROS, EN DONDE A ES H, CICLOALQUILO(C3-C6), NH2, ENTRE OTROS L ES UN ENLACE SENCILLO, CH2, ENTRE OTROS Z ES NH U O Ra, Rb Y Rc SON CADA UNO ALQUILO(C1-C6), ALQUENILO(C2-C6), CICLOALQUILO(C3-C6) O FENILO n, s Y t SON CADA UNO 0 O 1 p ES DE 2 A 4 Rd ES ALQUILO(C1-C6) Re, Rf Y Rg SON CADA UNO ALQUILO(C1-C6), ALQUENILO(C2-C6), CICLOALQUILO(C3-C6) O FENILO w1 Y w2 SON CADA UNO 0 O 1. TAMBIEN SE REFIERE A UNA COMPOSICION COSMETICA O DERMATOLOGICA QUE CONTIENE DICHO POLIMERO EN UNA CANTIDAD DE
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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