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Mask Structure and Kit Thereof
专利权人:
发明人:
LU, SHU FEN,吕淑芬,呂淑芬,CHIU, CHI MING,邱啓铭,邱啓銘
申请号:
TW104126674
公开号:
TW201707690A
申请日:
2015.08.17
申请国别(地区):
TW
年份:
2017
代理人:
摘要:
The present invention is related to a mask structure comprising a fabric wherein the fabric comprises a first fiber modified by chitosan. The chitosan contains 0.4 to 1.5 wt% of the total weight of the first fiber. The present mask structure is able to inhibit the growth of bacteria therefore can be re-used without hygiene concern. Moreover, the amount of waste mask can be reduced.本發明關於一種面膜結構,其包含一編織體;其中前述編織體包含一經幾丁聚醣修飾之第一纖維。前述幾丁聚醣佔前述第一纖維之總重量的0.4至1.5%。本發明之面膜結構因可抑制細菌滋生,故可重複使用而不會有衛生上的顧慮,並可減少使用廢棄量。100‧‧‧面膜套組110‧‧‧面膜結構120‧‧‧液體成份130‧‧‧包裝袋
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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