The presently disclosed subject matter describes the use of fluorinated elastomer-based materials, in particular perfluoropolyether (PFPE)-based materials, in high-resolution soft or imprint lithographic applications, such as micro- and nanoscale replica molding, and the first nano-contact molding of organic materials to generate high fidelity features using an elastomeric mold. Accordingly, the presently disclosed subject matter describes a method for producing free-standing, isolated nanostructures of any shape using soft or imprint lithography techniques.La présente invention a trait à lutilisation de matériaux à base délastomère fluoré, notamment des matériaux à base de polyéther perfluoré, dans des applications lithographiques molle ou dimpression haute résolution, telles que le moulage de répliques à léchelle micronique ou nanométrique, et le moulage par premier contact à léchelle nanométrique de matériaux organiques pour la génération déléments de haute fidélité au moyen dun moule élastomérique. Par conséquent, la présente invention a trait à un procédé pour la production de nanostructures isolées autoportantes de toute forme au moyen de techniques de lithographie molle ou dimpression.
