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SKIN CLEANSING COMPOSITION
专利权人:
KOBAYASHI PHARMACEUTICAL CO LTD;小林製薬株式会社
发明人:
OKAMOTO HIROAKI,岡本 浩明
申请号:
JP2017245775
公开号:
JP2019112331A
申请日:
2017.12.22
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
To provide a skin cleansing composition which suppresses the generation of a precipitate while containing miconazole and/or a salt thereof.SOLUTION: There is provided a skin cleansing composition comprising miconazole and/or a salt thereof, isopropylmethylphenol, glycyrrhizic acids and water, which can suppress the generation of a precipitate, compared with a skin cleansing composition which does not comprise at least any one of isopropylmethylphenol and glycyrrhizic acids.SELECTED DRAWING: None【課題】本発明の目的は、ミコナゾール及び/又はその塩を含みながらも析出物の生成が抑制された皮膚洗浄用組成物を提供することである。【解決手段】ミコナゾール及び/又はその塩と、イソプロピルメチルフェノールと、グリチルリチン酸類と、水とを含む皮膚洗浄用組成物は、イソプロピルメチルフェノール及びグリチルリチン酸類の少なくともいずれかを含まない皮膚洗浄用組成物に比べ、析出物の生成を抑制することができる。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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