您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

COL�? GENO AND �? RETICULATED Hyaluronic Acid AND ITS USES.
专利权人:
ALLERGAN; INC.
发明人:
SCHROEDER, JACQUELINE,DAPPER, GREGORY,OLSON, KENNETH
申请号:
ES08837704
公开号:
ES2375801T3
申请日:
2008.10.08
申请国别(地区):
ES
年份:
2012
代理人:
摘要:
Process for the preparation of an implant, comprising: contacting hyaluronic acid (AH) with a crosslinking agent, to allow crosslinking of the HA by means of the crosslinking agent, thereby forming a first composition; contacting the first composition with collagen, to allow the cross-linking of the collagen by means of the cross-linking agent, thus forming a second composition, contacting the second composition with an AH solution to allow the cross-linking of the AH in the solution by means of the crosslinking agent, thereby producing an implant, in which the crosslinking agent is preferably divinyl sulfone (VS) or 1,4-butanediol diglycidyl ether (BDDE), whereby a concentration of the VS to form the first composition is preferably 500-10,000 ppm, more preferably 5,000 ppm and, optionally, also comprises contacting the second composition with a local anesthetic agent, such as lidocaine, whereby the concentration of lidocaine in The implant is preferably 1-7 mg / ml and, more preferably, 2.7-3.3 mg / ml.Procedimiento para la preparación de un implante, que comprende: poner en contacto ácido hialurónico (AH) con un agente reticulante, para permitir la reticulación del AH por medio del agente reticulante, formando, de esta manera, una primera composición; poner en contacto la primera composición con colágeno, para permitir la reticulación del colágeno por medio del agente reticulante, formando, de esta manera, una segunda composición, poner en contacto la segunda composición con una solución de AH para permitir la reticulación del AH en la solución por medio del agente reticulante, produciendo, de esta manera, un implante, en el que el agente reticulante es, preferentemente, divinil sulfona (VS) o 1,4-butanodiol diglicidil éter (BDDE), por lo cual una concentración de la VS para formar la primera composición es, preferentemente, de 500-10.000 ppm, más preferentemente 5.000 ppm y, opcionalmente, comprende también poner en contacto la segunda composición con un agente a
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充