In the present invention, a processor of an energy source device detects a parameter that changes in accordance with the amount of a tissue to be treated and that is related to an impedance and/or an output to a bipolar electrode, and sets a target value relating to control of output to a heater on the basis of the detected parameter. Until at least a predetermined time after the start of the control of output to the heater based on the set target value, the processor increases the output to the heater and increases the temperature of the heater the smaller the amount of the tissue to be treated is.Selon l'invention, un processeur d'un dispositif source d'énergie détecte un paramètre qui change en fonction de la quantité d'un tissu à traiter et est associé à une impédance et/ou à un débit vers une électrode bipolaire, et définit une valeur cible se rapportant à la régulation du débit vers un dispositif de chauffage sur la base du paramètre détecté. Tant qu'au moins un délai prédéterminé n'est pas atteint après le démarrage de la régulation du débit vers le dispositif de chauffage, sur la base de la valeur cible établie, le processeur augmente le débit vers le dispositif de chauffage et augmente la température du dispositif de chauffage plus la quantité du tissu à traiter est faible.エネルギー源装置のプロセッサは、処置対象の組織量に対応して変化し、かつ、インピーダンス及びバイポーラ電極への出力の少なくとも一方に関連するパラメータを検出し、検出した前記パラメータに基づいてヒータへの出力制御に関する目標値を設定する。前記プロセッサは、設定した前記目標値に基づく前記ヒータへの前記出力制御の開始以後において少なくとも所定の時点までは、前記処置対象の前記組織量が少ないほど、前記ヒータへの出力を高くし、かつ、前記ヒータの温度を高くする。
