Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung sowie ein Verfahren zum Messen von Abbildungseigenschaften eines optischen Abbildungs-systems (4) , wobei die Vorrichtung (2) dadurch fortgebildet ist, dass diese einen Kollimator (6) mit einer Strichplatte (10) und einen Bildsensor (14) sowie eine Verarbeitungseinheit (16) umfasst, wobei der Kollimator (6) das optische Abbildungssystem (4) derart beleuchtet, dass ein Testmuster (20) der Strichplatte (10) zumindest näherungsweise in eine definierte Entfernung abgebildet wird, wobei das Testmuster (20) eine Längsrichtung (L) aufweist und diese Längsrichtung (L) mit einer optischen Achse (A) des Kollimators (6) einen Winkel ungleich 90° einschließt, und wobei die Verarbeitungseinheit (18) dazu eingerichtet ist, eine Mehrfrequenz-MTF-Analyse in mehreren voneinander verschiedenen Bereichen (B1, B2) einer mit dem Bildsensor (14) erfassten Abbildung des Testmusters (20) durchzuführen.
