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殺菌用過氧化氫水溶液
专利权人:
MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY; INC.
发明人:
NOGASHIRA, ARISA,野头亚理沙,野頭亞理沙,IURA, KATSUHIRO,井浦克弘,KIMIZUKA, KEN-ICHI,君塚健一,TASAKI, KEN,田崎贤,田崎賢
申请号:
TW107102452
公开号:
TW201832663A
申请日:
2018.01.24
申请国别(地区):
TW
年份:
2018
代理人:
摘要:
The present invention provides a hydrogen peroxide aqueous solution for disinfection, which is used in the form of mist or vapor, leaves little residue on a spray nozzle, and enables easy residue removal by rinsing with water. One embodiment of the present invention pertains to a hydrogen peroxide aqueous solution for disinfection, which is used in the form of mist or vapor, and which comprises hydrogen peroxide, 2-8 ppm of orthophosphoric acid or phosphonic acid, 10-500 ppb of aluminum, and sulfate ions, wherein the contained amount of sulfate ions is, in mass ratio, equal to or more than 10-20 times of the contained amount of aluminum.本發明提供以霧氣或蒸氣的形式使用的殺菌用之過氧化氫水溶液,於噴霧噴嘴之殘渣附著少,而且利用水洗所為之殘渣除去係為容易。可藉由本發明之一實施形態亦即下列之水溶液來解決上述課題:一種水溶液,係以霧氣或蒸氣的形式使用的殺菌用之過氧化氫水溶液;含有過氧化氫、2ppm以上、8ppm以下之正磷酸或膦酸、10ppb以上、500ppb以下之鋁、以及硫酸離子;該硫酸離子之含量相對於該鋁之含量,按質量比計,為10倍以上並為20倍以下。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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