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集束イオンビーム装置、集束イオン/電子ビーム加工観察装置、及び試料加工方法
专利权人:
株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人:
久保 雄大,間所 祐一
申请号:
JP20130159447
公开号:
JP6261228(B2)
申请日:
2013.07.31
申请国别(地区):
日本
年份:
2018
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve a focused ion beam with a small beam diameter even at a low acceleration voltage without using a complicated device configuration, thereby reducing damage on a sample.SOLUTION: The present invention relates to, for example, a focused ion beam device configured to focus ion beams from an ion source through a lens to irradiate a sample with focused ion beams. In the focused ion beam device, a four-pole element lens is arranged between an extraction electrode for extracting the ion beams from the ion source and an acceleration electrode for accelerating the ion beams.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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