the present invention relates to an antimicrobial mixture containing 4- (3-ethoxy-4-hydroxyphenyl) butan-2-one, and an additional compound selected from: a monovalent or divalent metal salt of pyrithione, pyroctone olamine , diazolidinyl urea, a hexamidine compound, imidazolidinyl urea； and to a cosmetic composition containing such a mixture. the invention can be used in the care and cleaning of keratin materials, and in makeup.a presente invenção refere-se a uma mistura antimicrobiana que contém 4-(3-etoxi-4-hidroxifenil) butan-2-ona, e um composto adicional selecionado a partir de: um sal de metal monovalente ou divalente de piritiona, piroctona olamina, diazolidinil ureia, um composto de hexamidina, imidazolidinil ureia； e a uma composição cosmética que contém tal mistura. a invenção pode ser usada no cuidado e limpeza de materiais de queratina, e em maquiagem.
