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内嵌式金属网栅的电磁屏蔽光窗的制备方法
专利权人:
中国科学院上海光学精密机械研究所
发明人:
张龙,居永凤,姜雄伟,范有余,袁新强
申请号:
CN201310380357.2
公开号:
CN103442544B
申请日:
2013.08.28
申请国别(地区):
中国
年份:
2016
代理人:
张泽纯
摘要:
一种内嵌式金属网栅的电磁屏蔽光窗的制备方法,该方法包含以下几个步骤:①飞秒激光刻蚀,②热处理和③镀铜。该方法不但能够在平面红外光窗实现电磁屏蔽,还可以在曲面红外光窗上实现电磁屏蔽。本发明适用于遥测遥感、医疗诊断、保密通讯、航天航空等电磁屏蔽。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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