磁共振成像装置、静磁场均匀度调整方法、程序以及计算机
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 藤川拓也,阿部充志,榊原健二,花田光
- 申请号：
- CN201680004608.9
- 公开号：
- CN107205687A
- 申请日:
- 2016.02.10
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 为了提供一种能够在磁场均匀度调整中减少磁性体片的配置量，且能够高精度地达成期望的磁场均匀度的静磁场均匀度调整方法，对于通过磁场产生装置产生的摄像空间中的静磁场，通过匀场计算来计算多个磁性体片从所述摄像空间离开的位置，将所述多个磁性体片配置在通过该匀场计算得到的位置，从而调整所述摄像空间中的静磁场均匀度，该方法的特征在于，包括：调整步骤，在所述匀场计算时，施加使配置于所述位置的所述磁性体片在所述摄像空间生成的磁场分布的极性为正负中的任一者这样的制约，来调整所述静磁场均匀度。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
