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含陰離子聚合物之抗破碎劑型
专利权人:
发明人:
BARNSCHEID, LUTZ,巴恩闪德 路滋,巴恩閃德 路滋,SCHWIER, SEBASTIAN,史毕 塞巴斯提恩,史畢 塞巴斯提恩,巴托洛莫斯 乔翰那斯,巴托洛莫斯 喬翰那斯,巴恩闪德 路滋,巴恩閃德 路滋,史毕 塞巴斯提恩,史畢 塞巴斯提恩,巴托洛莫斯 乔翰那斯,巴托洛莫斯 喬翰那斯
申请号:
TW100131418
公开号:
TWI501788B
申请日:
2011.09.01
申请国别(地区):
TW
年份:
2015
代理人:
摘要:
The invention relates to a pharmaceutical dosage form exhibiting a breaking strength of at least 500 N, said dosage form containing -a pharmacologically active ingredient (A); -an anionic polysaccharide (B) obtainable by introducing anionic functional groups, in protonated form or a physiologically acceptable salt thereof, into a polysaccharide; and -a polyalkylene oxide (C); wherein the pharmacologically active ingredient (A) is present in a controlled-release matrix comprising the anionic polysaccharide (B) and the polyalkylene oxide (C).本發明係關於一種展現至少500N斷裂強度之醫藥劑型,該劑型含有一藥理活性成分(A);一藉由聚多醣內導入質子化型陰離子官能基可獲得之一陰離子聚多醣(B)或其生理上可接受鹽;以及一一聚氧亞烷(C);其中該藥理活性成分(A)係存在於包含該陰離子聚多醣(B)和該聚氧亞烷(C)之一控釋基質內。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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