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emanation system and method for use
专利权人:
S. C. JOHNSON & SON; INC.
发明人:
FEI GAO,MAUDE CHRISTIAN MEIER,RANDY C. YUHAS
申请号:
BR112015032263
公开号:
BR112015032263A2
申请日:
2014.06.27
申请国别(地区):
BR
年份:
2017
代理人:
摘要:
abstract "emanation system and method for use" is an disclosed emanation system (100) which includes a substrate (102), a secondary substrate (140) and an air handling material (106) . the secondary substrate (140) is adapted to be wetted with the flow of air treatment material applied to the substrate (102). when applied, air treatment material emanates from substrate (102) at a first release rate and from secondary substrate (140) at a second release rate.resumo “sistema de emanação e método para uso” trata-se de um sistema de emanação (100) que é revelado, o qual inclui um substrato (102), um substrato secundário (140) e um material de tratamento de ar (106). o substrato secundário (140) é adaptado para ser umedecido com o escoamento do material de tratamento de ar aplicado ao substrato (102). quando aplicado, o material de tratamento de ar emana do substrato (102) a uma primeira taxa de liberação e do substrato secundário (140) a uma segunda taxa de liberação.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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