A space sterilization device which includes an aqueous-hypochlorous-acid-solution supply part for supplying an aqueous hypochlorous acid solution in a gaseous and/or atomized state to a space to be treated and with which the hypochlorous acid concentration in the space to be treated is regulated to 400 ppb to 500 ppm. Hypochlorous acid concentrations at which a space being treated can be sufficiently sterilized and deodorized without being adversely affected by the aqueous hypochlorous acid solution are specified, and a space sterilization device capable of maintaining such a concentration is obtained.L'invention concerne un dispositif de stérilisation d'un espace comprenant une partie d'alimentation en solution aqueuse d'acide hypochloreux pour alimenter en solution aqueuse d'acide hypochloreux dans un état atomisé et/ou gazeux un espace à traiter et dont la concentration en acide hypochloreux dans l'espace à traiter est régulée de 400 ppb à 500 ppm. L'invention concerne des concentrations d'acide hypochloreux selon lesquelles un espace étant traité peut être suffisamment stérilisé et désodorisé sans être négativement affecté par la solution aqueuse d'acide hypochloreux, et l'obtention d'un dispositif de stérilisation d'un espace apte à maintenir une telle concentration.被処理空間にガス状及び／または霧状の次亜塩素酸水を供給する次亜塩素酸水供給部を含み、被処理空間中の次亜塩素酸濃度を４００ｐｐｂないし５００ｐｐｍにする空間殺菌装置。次亜塩素酸水の悪影響を受けず、かつ被処理空間内を十分に殺菌、除臭することが可能な次亜塩素酸濃度を規定し、その濃度を維持し得る空間殺菌装置を得る。
