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APPAREIL DE CICATRISATION DESTINÉ À PROMOUVOIR LA GRANULATION ET L'ÉPITHÉLIALISATION AU NIVEAU D'UN SITE TISSULAIRE
专利权人:
LOCKE, Christopher, Brian;COULTHARD, Richard Daniel, John;KCI LICENSING;ROBINSON, Timothy, Mark; INC.;KCI LICENSING, INC.
发明人:
ROBINSON, Timothy, Mark,LOCKE, Christopher, Brian,COULTHARD, Richard Daniel, John
申请号:
USUS2011/063397
公开号:
WO2012/078556A2
申请日:
2011.12.06
申请国别(地区):
US
年份:
2012
代理人:
摘要:
An apparatus for promoting granulation and epithelialisation at a tissue site having a substantially gas impermeable, flexible mat. A plurality of projections extend from a surface of the substantially gas impermeable, flexible mat, and each projection has a first end connected to the surface and a second end opposing the first end. A flexible membrane is positioned adjacent the second end of at least a portion of the plurality of projections and the flexible membrane is sufficiently flexible to allow deformation of the flexible membrane by the at least the portion of the plurality of projections when a biasing force exerted on the substantially gas impermeable, flexible mat or the plurality of projections is greater than or equal to a threshold force.La présente invention concerne un appareil destiné à promouvoir la granulation et l'épithélialisation au niveau d'un site tissulaire, ledit appareil ayant un tapis flexible sensiblement imperméable aux gaz. Une pluralité de projections s'étendent d'une surface du tapis flexible sensiblement imperméable aux gaz, et chaque projection a une première extrémité connectée à la surface et une seconde extrémité opposée à la première extrémité. La membrane flexible est positionnée adjacente à la seconde extrémité d'au moins une partie de la pluralité de projections et la membrane flexible est suffisamment flexible pour permettre la déformation de la membrane flexible par la ou les parties de la pluralité de projections lorsqu'une force de déviation exercée sur le tapis flexible sensiblement imperméable aux gaz ou sur la pluralité de projections est supérieure ou égale à une force seuil.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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