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REVÊTEMENT ANTIMICROBIEN COMPRENANT DES NANOPARTICULES DE CHALCOGÉNURE COIFFÉES PAR DU CHITOSANE
专利权人:
NASH, Kelly L.;LARA, Humberto H.;NASH;GUISBIERS, Grégory; Kelly L.
发明人:
NASH, Kelly L.,GUISBIERS, Grégory,LARA, Humberto H.
申请号:
USUS2018/024795
公开号:
WO2018/183464A1
申请日:
2018.03.28
申请国别(地区):
US
年份:
2018
代理人:
摘要:
Disclosed herein are methods of making pure chalcogenide (e.g., selenium, tellurium, or selenium/tellurium) nanoparticles by irradiating chalcogenide pellets by nano-second laser ablation using chitosan as a capping agent to form chitosan chalcogenide nanoparticles (CS-CgNPs). CS-CgNPs and methods of using such particles are also disclosed herein, such as antimicrobials and antimicrobial coatings effective against biofilmsL'invention concerne des procédés de fabrication de nanoparticules de chalcogénure pur (par exemple, sélénium, tellure ou sélénium/tellure) par irradiation de pastilles de chalcogénure par ablation par laser nano-seconde à l'aide de chitosane en tant qu'agent de coiffage pour former des nanoparticules de chalcogénure de chitosane (CS-CgNP). L'invention concerne également des CS-CgNP et des procédés d'utilisation de ces particules, tels que des antimicrobiens et des revêtements antimicrobiens efficaces contre les biofilms.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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