Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Plasmabehandlung von Hohlkörpern (4), umfassend eine Unterdruckbehandlungskammer (2) und Mittel zum Erzeugen des Plasmas, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Mittel zum Erzeugen des Plasmas eine im Querschnitt im wesentlichen U-förmige Elektrode (6) umfassen, die in der Unterdruckbehandlungskammer angeordnet ist, wobei die Hohlkörper während der Durchführung der Plasmabehandlung zumindest teilweise U-förmigen Elektrode eintauchen, und zumindest zeitweise relativ zur U-förmigen Elektrode bewegt werden. Weiter betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Plasmabehandlung von Hohlkörpern, bei dem die Hohlkörper in eine Unterdruckbehandlungskammer verbracht werden, in der die Plasmabehandlung erfolgt, und das Plasma durch ein elektromagnetisches Feld generiert wird, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Hohlkörper während der Durchführung der Plasmabehandlung zumindest teilweise in das elektromagnetische Feld eintauchen, und dass die Hohlkörper zumindest zeitweise relativ zum elektromagnetischen Feld bewegt werden.The device comprises a low pressure treatment chamber, a plasma producing device having a U-shaped electrode in cross-section, and two separate suction devices. The electrode is arranged in the low pressure treatment chamber. The hollow body is partially immersed during carrying out the plasma treatment in the U-shaped electrode and is moved relative to the electrode. The suction device generates a reduced pressure (P2) in the interior of the hollow body and another suction device generates a reduced pressure (P1) in the interior of the low pressure treatment chamber. The device comprises a low pressure treatment chamber, a plasma producing device having a U-shaped electrode in cross-section, and two separate suction devices. The electrode is arranged in the low pressure treatment chamber. The hollow body is partially immersed during carrying out the plasma treatment in the U-shaped electrode and is moved rel
