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Plasma-Applikatoren für plasmachirurgische Verfahren
专利权人:
Günter Farin
发明人:
gleich Patentinhaber
申请号:
DE102008004843
公开号:
DE102008004843B4
申请日:
2008.01.17
申请国别(地区):
DE
年份:
2012
代理人:
摘要:
Plasmaaplikator für die flexible Endoskopie mit einer biegeflexiblen schlauchförmigen Sonde (10), die für das Einführen in den Arbeitskanal eines Endoskops vorgesehen ist, in der eine Sondenleitung (12) vorhanden ist zum Übertragen elektrischer Energie von einem elektrochirurgischen HF-Generator (1), der über eine Anschlussleitung (11) an die Sondenleitung (12) angeschlossen ist, zu einer Elektrode (13), die am distalen Ende der biegeflexiblen Sonde (10) angeordnet ist und weiter über einen Pfad oder Lichtbogen (14) aus ionisiertem Gas, das durch die biegeflexible Sonde (10) zur distalen Elektrode (13) geleitet wird, in ein biologisches Zielgewebe (4) und über eine neutrale Elektrode (2) zurück zum elektrochirurgischen Generator (1), wobei zwischen der Anschlussleitung (11) und der distalen Elektrode (13) ein Widerstandselement (20) mit vorbestimmter Impedanz angeordnet ist, die derart dimensioniert ist, dass nach der Ionisierung des Gases der Behandlungsstrom auf einen bestimmten Wert begrenzt wird, dadurch gekennzeichnet, dass zur sicherer Begrenzung des Behandlungsstroms das Widerstandselement (20) am...plasmaaplikator for the flexible endoscopy with a flexible tubular probe (10), which for the introduction into the working duct of an endoscope is provided, in which a flow line (12) is provided for transmitting electrical energy from an electrosurgical hf - generator (1), which via a connecting line (11) to the flow line (12) is connected to an electrode (13) which, at the distal end of the flexible probe (10) is arranged and further via a path or arc (14) of ionized gas, which is due to the flexible probe (10) to the distal electrode (13) is passed, in a biological target tissue (4) and via a neutral electrode (2) back to the electrosurgical generator (1), wherein between the connecting line (11) and the distal electrode (13), a resistor element (20) with a predetermined impedance is arranged, which is dimensioned in such a way that after the ionization of the g
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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