According to the present invention, a radiation measuring apparatus having a thin and sufficient signal quantity is realized.The radiation measuring apparatus 101 comprises a control device 301, a CCD camera 302, a leopard 303, a mirror 304 and a phosphor 305. When the beam passes through the phosphor 305, fluorescence is generated from the beam passing position. The fluorescence intensity depends on the beam intensity. The fluorescence is reflected by the mirror 304 and finally observed by the CCD camera 302.An anti reflection film 401 is provided on the mirror side surface of the fluorescent plate 305, and the scattered light is reflected by the phosphor 305 and prevented from incident on the CCD camera 302. When the scattered light 402 enters the anti reflection film 401, a part of the surface of the phosphor 305 is reflected on the surface of the antireflection film 401 (reflected light 403a, 403B). The reflected light 403a and the reflected light 403B have opposite phases with each other, and the amplitude is reduced by interference.That is, the anti reflection film 401 suppresses the reflection of scattered light from the phosphor 305 and prevents incident light from the CCD camera 302.Diagram【課題】本発明によれば、薄型且つ十分な信号量を備えた放射線計測装置が実現する。【解決手段】射線計測装置101は制御装置301、CCDカメラ302、キョウ体303、鏡304、蛍光体305で構成される。ビームが蛍光体305を通過すると、ビームの通過位置から蛍光が発生する。蛍光の強さはビーム強度に依存する。蛍光は鏡304で反射し、最終的にCCDカメラ302で観測される。蛍光板305の鏡側表面には反射防止膜401が備わっており、散乱光が蛍光体305で反射し、CCDカメラ302に入射することを防止する。散乱光402が反射防止膜401に入射すると、一部が蛍光体305の表面、一部が反射防止膜401の表面で反射する(反射光403A、403B)。反射光403Aと反射光403Bは互いに逆位相となり、干渉して振幅が減少する。即ち、反射防止膜401は蛍光体305での散乱光の反射を抑制し、CCDカメラ302への入射を防止する。【選択図】図3
