SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

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专利权人:

SCREEN HOLDINGS CO., LTD.

发明人:

NISHIYAMA KOJI,INOUE KAZUHIRO

申请号：

KR20170103536

公开号：

KR20180020902(A)

申请日:

2017.08.16

申请国别(地区):

韩国

年份:

2018

代理人:

摘要：

노광 처리 전의 기판이 재치겸 냉각부에 반입되어, 냉각된다. 냉각된 기판이 재치겸 냉각부로부터 반송 장치에 의해 유지되어, 반출된다. 노광 장치가 기판을 받아들임 가능한 경우, 재치겸 냉각부로부터 반출된 기판이 반송 장치에 의해 노광 장치에 반송된다. 노광 장치가 기판을 받아들임 불가능한 경우, 재치겸 냉각부로부터 반출된 기판이 반송 장치에 의해 냉각겸 버퍼부에 반입된다. 냉각겸 버퍼부에 있어서, 기판의 온도가 유지된다. 노광 장치가 기판을 받아들임 가능하게 된 후, 반송 장치에 의해 냉각겸 버퍼부로부터 기판이 반출되어, 노광 장치에 반송된다.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/