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SYSTÈME ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION À DES RAYONS X MULTI-FAISCEAUX POUR UNE IMAGERIE 4D
专利权人:
KONINKLIJKE PHILIPS N.V.
发明人:
VOGTMEIER, Gereon,ENGEL, Klaus, Juergen,GRASS, Michael,MENSER, Bernd,STEINHAUSER, Heidrun,FAZZI, Alberto,STEGEHUIS, Herman,SCHAEFER, Dirk
申请号:
EPEP2017/061421
公开号:
WO2017/194727A1
申请日:
2017.05.12
申请国别(地区):
EP
年份:
2017
代理人:
摘要:
An interventional X-ray system is proposed, the system including a multi X- ray source unit positioned below a patient table. This 'multiblock' may comprise several x- ray sources with focal spot positions distributed along the x-y (table) plane. The x-ray sources are operable in a switching scheme in which certain x-ray sources may be activated in parallel and also sequential switching between such groups is intended. The switching may be carried out so that several images with different projection angles can be acquired in parallel. In other words, an optimal multi-beam X-ray exposure is suggested, wherein fast switching in one dimension and simultaneous exposure in the 2nd dimension is applied.L'invention concerne un système de radiographie interventionnelle, le système comprenant une unité de multiples sources de rayons X positionnée au-dessous d'une table de patient. Ce "multibloc" peut comprendre plusieurs sources de rayons x avec des positions de point focal réparties le long du plan x-y (table). Les sources de rayons x peuvent fonctionner selon un système de commutation dans lequel certaines sources de rayons x peuvent être activées en parallèle, et une commutation séquentielle entre ces groupes est également prévue. La commutation peut être effectuée de telle sorte que plusieurs images ayant des angles de projection différents peuvent être acquises en parallèle. En d'autres termes, l'invention propose une exposition optimale à des rayons X multi-faisceaux, selon laquelle une commutation rapide dans une dimension et une exposition simultanée dans la seconde dimension sont appliquées.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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