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ÉLIMINATION DE STRUCTURES DE MASQUAGE DANS DES IMAGES DESTINÉES À LA DÉTECTION D'ANOMALIES
专利权人:
CUREMETRIX; INC.
发明人:
KARIMABADI, Homayoun
申请号:
USUS2017/053099
公开号:
WO2018/057990A1
申请日:
2017.09.22
申请国别(地区):
US
年份:
2018
代理人:
摘要:
A method includes obtaining a first image of a patient procured during an X-ray, analyzing the first image for one or more unmasked anomalies, shifting the first image to provide a shifted image, obtaining a residual image comprising a combination of the first image and the shifted image, and analyzing the residual image for one or more masked anomalies, where the one or more masked anomalies include anomalies that went undetected in the analysis of the first image for the one or more unmasked anomalies due to a presence of one or more masking features in the first image.La présente invention concerne un procédé comprenant l'obtention d'une première image d'un patient fournie durant l'analyse aux rayons (X), l'analyse de la première image pour une ou plusieurs anomalies non masquées, le décalage de la première image pour fournir une image décalée, l'obtention d'une image résiduelle comprenant une combinaison de la première image et de l'image décalée, et l'analyse de l'image résiduelle concernant une ou plusieurs anomalies masquées, où lesdites anomalies masquées comprennent des anomalies qui ne sont pas détectées dans l'analyse de la première image concernant lesdites anomalies non masquées dues à la présence d'une ou plusieurs caractéristiques de masquage dans la première image.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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